GB/T 14142-2017 硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法
标准名称：硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法
发布日期：2017-09-29
实施日期：2018-04-01
标准编号：GB/T 14142-2017
标准状态：现行(*非即时更新以实际为准)
标准格式：PDF电子版
简介
GB/T 14142-2017 硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法
标准编号：GB/T 14142-2017
规范名称：硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法
本标准规定了用化学腐蚀显示，并用金相显微镜检验硅外延层晶体完整性的方法。
本标准适用于硅外延层中堆垛层错和位错密度的检验，硅外延层厚度大于2m，缺陷密度的测试范围0~10000cm-2。
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
起草单位：南京国盛电子有研公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、有研半导体材料有限公司
批准发布部门：国家标准化管理委员会
GB/T 14142-2017 硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法(图)
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