YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
标准名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
发布日期：2009-12-04
实施日期：2010-06-01
标准编号：YS/T 719-2009
标准状态：现行(*非即时更新以实际为准)
标准格式：PDF电子版
简介
YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
标准编号：YS/T 719-2009
规范名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
适用范围：
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
全国有色金属标准化技术委员会
起草单位：利达光电股份有限公司
批准发布部门：工业和信息化部行业分类无
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