GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶
标准名称：磁控溅射用钌靶
发布日期：2017-09-29
实施日期：2018-04-01
标准编号：GB/T 34649-2017
标准状态：现行(*非即时更新以实际为准)
标准格式：PDF电子版
简介
GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶
标准编号：GB/T 34649-2017
规范名称：磁控溅射用钌靶
本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。
本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶（以下简称钌靶）。
全国有色金属标准化技术委员会
起草单位：有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院
批准发布部门：中国有色金属工业协会
GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶(图)
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