GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
标准名称：硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
发布日期：2012-05-11
实施日期：2012-12-01
标准编号：GB/T 28274-2012
标准状态：现行(*非即时更新以实际为准)
标准格式：PDF电子版
简介
GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
标准编号：GB/T 28274-2012
规范名称：硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
本标准规定了微结构加工时,光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积(CVD)、物理气相淀积(PVD)、离子注入、反应离子刻蚀(RIE)、氢氧化钾(KOH)腐蚀、硅-玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
全国微机电技术标准化技术委员会
起草单位：北京大学、中国电子科技集团第十三研究所、西北工业大学、中机生产力促进中心、中国科学院上海微系统与信息技术研究所
批准发布部门：国家标准化管理委员会
GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则(图)
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