GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
标准名称：表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
发布日期：2006-03-27
实施日期：2006-11-01
标准编号：GB/T 20176-2006
标准状态：现行(*非即时更新以实际为准)
标准格式：PDF电子版
简介
GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
标准编号：GB/T 20176-2006
规范名称：表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10的16次方atoms/cm3～1×10的20次方atoms/cm3。
全国微束分析标准化技术委员会
起草单位：清华大学电子工程系
批准发布部门：国家标准化管理委员会
GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度(图)
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