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GB/T 24578-2024 半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法

GB/T 24578-2024 半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法

简介

标准编号:GB/T 24578-2024

规范名称:半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法

归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会

起草单位:有研半导体硅材料股份公司、浙江海纳半导体股份有限公司、深圳牧野微电子技术有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、江苏华兴激光科技有限公司、哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司、深圳市晶导电子有限公司、天通银厦新材料有限公司、北京通美晶体技术股份有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、广东天域半导体股份有限公司、江苏芯梦半导体设备有限公司、深圳市深鸿盛电子有限公司、湖南德智新材料有限公司

起草人:宁永铎、孙燕、朱晓彤、康森、潘金平、任殿胜、丁雄杰、刘薇、赵丽丽、张西刚、贺东江、李素青、靳慧洁、孙韫哲、张海英、何凌、沈演凤、廖周芳、赖辉朋、廖家豪

批发部门:国家标准委

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