GB/T 6616-1995 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法
标准名称：半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法
发布日期：1995-04-18
实施日期：1995-12-01
标准编号：GB/T 6616-1995
标准状态：现行(*非即时更新以实际为准)
标准格式：PDF电子版
简介
GB/T 6616-1995 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法
标准编号：GB/T 6616-1995
规范名称：半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
起草单位：上海有色金属研究所
批准发布部门：国家标准化管理委员会
GB/T 6616-1995 半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测定 非接触涡流法(图)
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