JC/T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
标准名称：半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
发布日期：2012-12-28
实施日期：2013-06-01
标准编号：JC/T 2133-2012
标准状态：现行(*非即时更新以实际为准)
标准格式：PDF电子版
简介
JC/T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
标准编号：JC/T 2133-2012
规范名称：半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
适用范围：
本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。
全国工业陶瓷标准化技术委员会
起草单位：中国科学院上海硅酸盐研究所
批准发布部门：工业和信息化部行业分类无
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