YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
标准名称：电子薄膜用高纯铜溅射靶材
发布日期：2012-11-07
实施日期：2013-03-01
标准编号：YS/T 819-2012
标准状态：现行(*非即时更新以实际为准)
标准格式：PDF电子版
简介
YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
标准编号：YS/T 819-2012
规范名称：电子薄膜用高纯铜溅射靶材
适用范围：
本标准规定了电子薄膜用高纯铜溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及合同（或订货单）内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯铜溅射靶材。
全国有色金属标准化中心
起草单位：宁波江丰电子材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司
批准发布部门：工业和信息化部行业分类无
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